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PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁， 有幾種不同的電極設(shè)計，包括用于反應(yīng)離子刻蝕（RIE）和平面處理的水冷平板電極，用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極，用于小化離子損傷的下游電極，和用于普通的圓柱形籠式電極。

反應(yīng)離子刻蝕機PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料，擁有多種腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小，用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外，觸摸屏計算機控制，多級程序控制和組件控制，操作簡單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。

Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD，加拿大進(jìn)口桌面式設(shè)備，可支持MWPlasma微波等離子體和MWPECVD微波等離子體增強化學(xué)氣相沉積。

型號PICO的德國Diener等離子清洗機可以組合成不同的派生型，例如組合成模塊系統(tǒng)。下面是能夠與 Pico 等離子系統(tǒng)組合使用的最常見選裝件的概覽。Pico 系統(tǒng)主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域： 分析 (REM, TEM)，考古，汽車，研究和開發(fā)部門，半導(dǎo)體技術(shù)，小批量生產(chǎn)，塑料技術(shù)，醫(yī)療技術(shù)，微系統(tǒng)技術(shù)，傳感技術(shù)，滅菌，紡織技術(shù)

型號為Femto的德國Diener等離子清洗機可以組合成不同的派生型，例如組合成模塊系統(tǒng)。下面是能夠與 Femto 等離子系統(tǒng)組合使用的最常見選裝件的概覽。Femto 等離子系統(tǒng)主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域： 分析、考古、汽車、研究和開發(fā)部門、半導(dǎo)體技術(shù)、小批量生產(chǎn)、塑料技術(shù)、醫(yī)療技術(shù)、微系統(tǒng)技術(shù)、傳感技術(shù)、滅菌、紡織技術(shù)

0.5 升的 Low Cost 等離子體實驗室設(shè)備 型號為ATTO的德國Diener等離子清洗機配有手動型 和 Basic PC 控制系統(tǒng)，主要用于以下領(lǐng)域： 小批量生產(chǎn)、分析 (REM, TEM)、醫(yī)療技術(shù)、滅菌、研究和開發(fā)部門、考古、紡織技術(shù)、塑料技術(shù)